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工业设计

“中国设计40年———经验与模式”国际研讨会召

点击:时间:2018-03-28

 3月20日,“中国设计40年———经验与模式”国际学术研讨会在中央美术学院美术馆学术报告厅开幕。几代设计名家名师济济一堂,25位海内外设计和设计教育领域的著名专家学者,围绕“战略·决策”、“文化·选择”、“城市·创造”和“教育·未来”四个板块共同探讨中国设计的未来发展。

  作为中央美术学院建校100周年的重要学术活动,此次国际学术研讨会展开了为期两天的学术活动,与会专家通过主题发言与圆桌讨论等环节,梳理改革开放40年来中国设计艺术与设计教育的发展脉络,深入总结历史经验,更是为了站在新时代、新征程的起点上思考和探索中国设计艺术与设计教育的未来之路。

  此外,“为中国设计———中央美术学院设计学科成果展”同期在中央美术学院美术馆开展。值此百年华诞之际,中央美术学院举办“为中国设计”中央美术学院设计学科成果展,共设置“国家形象设计”、“奥运设计”、“国家重大庆典礼品设计”、“重大国际国内活动设计”、“重要标识设计”、“工业产品设计”等12个单元,目的在于展示新中国以来特别是中央美术学院建立设计学科之后在设计实践领域所取得的重大成就,更是为了站在新时代、新征程的起点上谱写“为中国设计”新的篇章。

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